چین می گوید به نقطه عطفی در تولید تجهیزات ساخت تراشه داخلی رسیده است که گامی بزرگ در سرپیچی از تحریم های آمریکا برای جلوگیری از دستیابی پکن به اهداف نیمه هادی خود است.
به گزارش سرگرمی روز، وزارت صنعت و فناوری اطلاعات چین در بیانیه ای در ماه جاری اعلام کرد که به سازمان های دولتی توصیه می شود از دستگاه لیتوگرافی غوطه وری مبتنی بر لیزر با وضوح 65 نانومتر یا بهتر استفاده کنند. اگرچه این یادداشت فروشنده را شناسایی نکرده است، اما مشخصات نشان دهنده یک گام بالاتر از تجهیزات پیشرفته داخلی قبلی ساخته شده توسط شرکت Shanghai Microelectronics Equipment Group است که حدود 90 نانومتر بود.
تجهیزات ساخت تراشه یکی از موانع اصلی جاه طلبی های چین در بخش نیمه هادی است که ایالات متحده در تلاش است تا آن را مهار کند. شرکت هایی مانند SMEE در حال ایجاد ماشین هایی هستند که می توانند شکاف را با محصولات ساخته شده توسط شرکت هایی مانند ASML هلند پر کنند. این توسعه که هفته گذشته توسط وزارت صنعت و فناوری اطلاعات اعلام شد، نشان می‌دهد که رقبای داخلی در ایجاد ماشین‌های پیشرفته‌تر تولید تراشه پیشرفت کرده‌اند، اما هنوز راه زیادی برای رسیدن به ASML در پیش دارند.
ASML، بزرگ‌ترین تامین‌کننده تجهیزات تولید تراشه در جهان، صادرات پیشرفته‌ترین سیستم‌های لیتوگرافی خود به چین را در نتیجه لابی‌گری آمریکا با دولت هلند متوقف کرده است. در سال‌های 2022 و 2023، آمریکا کنترل‌های صادراتی را برای ارسال تراشه‌ها و تجهیزات ساخت تراشه به چین با هدف جلوگیری از پیشرفت چین در ابر رایانه‌ها و هوش مصنوعی اجرا کرد.
سازندگان نیمه هادی چینی به ندرت در مورد فناوری تراشه خود صحبت می کنند زیرا پکن این بخش را به عنوان بخش استراتژیک برای امنیت ملی طبقه بندی می کند.
